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常州永和精細(xì)化學(xué)有限公司  
產(chǎn)品展廳 / product
羥乙基磺酸鈉現(xiàn)貨
  • 英文名稱:1
  • 品牌:1
  • 產(chǎn)地:1
  • 型號(hào):1
  • 貨號(hào):1
  • 價(jià)格: ¥111/千克
  • 發(fā)布日期: 2023-09-11
  • 更新日期: 2025-04-07
產(chǎn)品詳請(qǐng)
產(chǎn)地 1
貨號(hào) 1
品牌 1
用途 醫(yī)藥中間體
型號(hào) 1
外觀 1
CAS編號(hào)
別名 1
級(jí)別 醫(yī)藥級(jí)
重金屬 1ppm
英文名稱 1
包裝規(guī)格 1
純度 1%
分子式 1

羥乙基磺酸鈉   Ethanesulfonic acid,2-hydroxy-, sodium salt (1:1)

羥乙基磺酸鈉(Sodium hydroxyethylsulfonate,簡(jiǎn)寫(xiě)為HESNa)是一種表面活性劑和清潔劑成分,通常用于個(gè)人護(hù)理產(chǎn)品、清潔劑和工業(yè)應(yīng)用中。這種化合物具有去污、去垢和乳化的性質(zhì),使其在清潔產(chǎn)品中具有廣泛的用途。

羥乙基磺酸鈉是一種有效的表面活性劑,可以用于各種清潔劑,如洗潔精、洗發(fā)水、素、洗手液等。它有助于去除污垢、油脂和雜質(zhì),使清潔產(chǎn)品更容易沖洗和使用,由于其溫和性質(zhì),羥乙基磺酸鈉常被添加到個(gè)人護(hù)理產(chǎn)品中,如洗發(fā)水、素和沐浴露,以改善產(chǎn)品的質(zhì)地和泡沫。在工業(yè)領(lǐng)域,羥乙基磺酸鈉可以用于清潔設(shè)備、管道和表面,去除油污和污垢。它也可用于金屬清洗,幫助去除氧化物和雜質(zhì),以提供更好的金屬表面處理,羥乙基磺酸鈉還可以用作高溫下的腐蝕抑制劑,特別是在油井和工業(yè)設(shè)備維護(hù)中。在一些化學(xué)反應(yīng)中,羥乙基磺酸鈉可用作中間體或反應(yīng)催化劑。

中文名:羥乙基磺酸鈉

中文別名:羥乙基磺酸鈉鹽

英文名稱:Ethanesulfonic acid,2-hydroxy-, sodium salt (1:1)

英文別名:Ethanesulfonicacid, 2-hydroxy-, monosodium salt (8CI,9CI);Ethanesulfonic acid, 2-hydroxy-,sodium salt (7CI);Isethionic acid sodium salt (6CI);2-Hydroxyethanesulfonicacid sodium salt;Adeka Tec HES;Sodium 1-hydroxy-2-ethanesulfonate;Sodium 2-hydroxyethanesulfonate;Sodium b-hydroxyethanesulfonate;Sodium hydroxyethylsulfonate;Isethionic acid, sodium salt;

CAS No.:1562-00-1

EINECS號(hào):216-343-6

分 子 式:C2H5NaO4S

  • 分 子 量:
  • 148.11
  • 熔 點(diǎn):
  • 191-194℃
  • 沸 點(diǎn):
  • °Cat760mmHg
  • 閃 光 點(diǎn):
  • °C
  • Inchi:
  • InChI=1/C2H6O4S.Na/c3-1-2-7(4,5)6;/h3H,1-2H2,(H,4,5,6);/q;+1/p-1
  • 密 度:
  • 1.625g/cm3
  • 水 溶 性:
  • SOLUBLE
  • 儲(chǔ)存條件:
  • 儲(chǔ)存于緊閉密封的容器中。 儲(chǔ)存于陰涼、干燥、通風(fēng)良好的區(qū)域,遠(yuǎn)離不相容的物質(zhì)。
  • 外 觀:
  • 固體
  • 危險(xiǎn)類別碼:
  • R40
  • 安全說(shuō)明:
  • S24/25
  • 海關(guān)編碼:
  • 29055910
    • 分子結(jié)構(gòu):


羥乙基磺酸鈉用途


用作表面活性劑中間體、日化及醫(yī)藥中間體


羥乙基磺酸鈉描述


09L8MFCD00007534KI77000003633992對(duì)水是稍微有害的,不要讓未稀釋或大量的產(chǎn)品接觸地下水,水道或者污水系統(tǒng),若無(wú)政府許可,勿將材料排入周圍環(huán)境1、   疏水參數(shù)計(jì)算參考值(XlogP):2、   氫鍵供體數(shù)量:13、   氫鍵受體數(shù)量:44、   可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:25、   拓?fù)浞肿訕O性表面積(TPSA):77.46、   重原子數(shù)量:8常溫常壓下穩(wěn)定,避免氧化物接觸保持容器密封,儲(chǔ)存在陰涼,干燥的地方


羥乙基磺酸鈉上游原料

環(huán)氧乙烷、焦亞硫酸鈉

羥乙基磺酸鈉計(jì)算化學(xué)數(shù)據(jù)

分子量:126.13164 [g/mol]
分子式:C2H6O4S
疏水參數(shù)計(jì)算參考值(XlogP):-1.6
氫鍵供體數(shù)量:2
氫鍵受體數(shù)量:4
可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:2
準(zhǔn)確質(zhì)量:125.998679
同位素質(zhì)量:125.998679
拓?fù)浞肿訕O性表面積(TPSA):83
重原子數(shù)量:7
形式電荷:0
復(fù)雜度:117
同位素原子數(shù)量:0
確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
共價(jià)鍵單元數(shù)量:1
功能3d受體數(shù)量:4
功能3 d供體數(shù)量:1
功能3d陰離子數(shù)量:1
有效轉(zhuǎn)子數(shù)量:2
構(gòu)象異構(gòu)體抽樣RMSD:0.4
CID構(gòu)象異構(gòu)體數(shù)量:3



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